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低温成長技術を用いたガラス基板上の大面積化合物半導体単結晶薄膜の作製

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低温成長技術を用いたガラス基板上の大面積化合物半導体単結晶薄膜の作製

国立国会図書館請求記号
Y151-H09555113
国立国会図書館書誌ID
000007070537
資料種別
図書
著者
大山, 昌憲, 東京工業高等専門学校
出版者
-
出版年
1997-1999
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
テイオン セイチョウ ギジュツ オ モチイタ ガラス キバン ジョウ ノ ダイ メンセキ カゴウブツ ハンドウタイタンケッショウ ハクマク ノ サクセイ
著者・編者
大山, 昌憲, 東京工業高等専門学校
著者標目
大山, 昌憲 オオヤマ, マサノリ
出版年月日等
1997-1999
出版年(W3CDTF)
1997
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
低温成長 テイオンセイチヨウ
化合物半導体薄膜 カゴウブツハンドウタイハクマク
ヘテロエピタキシー ヘテロエピタキシー
ドライプロセス ドライプロセス
イオンアシスト イオンアシスト
光学材料 コウガクザイリヨウ
電子ビーム蒸着 デンシビームジヨウチヤク
スパツタリング スパツタリング