プラナリゼーシヨンにおけるCMP作用の解明とCMP用ゾル・ゲル研磨剤の開発

• 資料種別: 図書
• タイトル: プラナリゼーシヨンにおけるCMP作用の解明とCMP用ゾル・ゲル研磨剤の開発
• タイトルよみ: プラナリゼーシヨン ニ オケル CMP サヨウ ノ カイメイ ト CMP ヨウ ゾル ・ ゲル ケンマザイ ノ カイハツ
• 著者・編者: 柴田, 順二, 芝浦工業大学
• 著者標目: 柴田, 順二 シバタ, ジュンジ
• 出版年月日等: 1998-2000
• 出版年（W3CDTF）: 1998
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 件名標目: CMP CMP; プラナリゼーシヨン プラナリゼーシヨン; ゾル・ゲル法 ゾル・ゲルホウ; 研磨剤 ケンマザイ; Siウエハー SIウエハー; 研磨布 ケンマフ; pH PH; シリカ シリカ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 10450062
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H10450062
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007071406; http://id.ndl.go.jp/bib/000007071406
• 整理区分コード: 214