プラナリゼーシヨンにおけるCMP作用の解明とCMP用ゾル・ゲル研磨剤の開発

• Material Type: 図書
• Title: プラナリゼーシヨンにおけるCMP作用の解明とCMP用ゾル・ゲル研磨剤の開発
• Title Transcription: プラナリゼーシヨン ニ オケル CMP サヨウ ノ カイメイ ト CMP ヨウ ゾル ・ ゲル ケンマザイ ノ カイハツ
• Author/Editor: 柴田, 順二, 芝浦工業大学
• Author Heading: 柴田, 順二 シバタ, ジュンジ
• Publication Date: 1998-2000
• Publication Date (W3CDTF): 1998
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(B)
• Subject Heading: CMP CMP; プラナリゼーシヨン プラナリゼーシヨン; ゾル・ゲル法 ゾル・ゲルホウ; 研磨剤 ケンマザイ; Siウエハー SIウエハー; 研磨布 ケンマフ; pH PH; シリカ シリカ
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 10450062
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H10450062
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007071406; http://id.ndl.go.jp/bib/000007071406
• Bibliographic Record Category (NDL): 214