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完全クローズド系の酸素フリー水/水フリー酸素とのシリコン表面反応機構制御の研究

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完全クローズド系の酸素フリー水/水フリー酸素とのシリコン表面反応機構制御の研究

国立国会図書館請求記号
Y151-H10555009
国立国会図書館書誌ID
000007072030
資料種別
図書
著者
森田, 瑞穂, 大阪大学
出版者
-
出版年
1998-2000
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
カンゼン クローズドケイ ノ サンソ フリースイ/スイ フリー サンソ ト ノ シリコン ヒョウメン ハンノウ キコウ セイギョ ノ ケンキュウ
著者・編者
森田, 瑞穂, 大阪大学
著者標目
森田, 瑞穂 モリタ, ミズホ
出版年月日等
1998-2000
出版年(W3CDTF)
1998
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
半導体表面 ハンドウタイヒヨウメン
半導体プロセス ハンドウタイプロセス
シリコン シリコン
表面反応 ヒヨウメンハンノウ