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パルスレーザデポジシヨンによる窒化炭素(CN)薄膜作製プロセスの開発

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パルスレーザデポジシヨンによる窒化炭素(CN)薄膜作製プロセスの開発

国立国会図書館請求記号
Y151-H10555108
国立国会図書館書誌ID
000007072077
資料種別
図書
著者
須田, 義昭, 佐世保工業高等専門学校
出版者
-
出版年
1998-2000
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
パルスレーザデポジシヨン ニ ヨル チッカ タンソ(CN)ハクマク サクセイ プロセス ノ カイハツ
著者・編者
須田, 義昭, 佐世保工業高等専門学校
著者標目
須田, 義昭 スダ, ヨシアキ
出版年月日等
1998-2000
出版年(W3CDTF)
1998
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
窒化炭素 チツカタンソ
パルスレーザデポジシヨン パルスレーザデポジシヨン
CN薄膜 CNハクマク
カーボン カーボン
Nd: YAG Laser ND: YAGLASER
直流バイアス チヨクリユウバイアス
オージエ電子分光 オージエデンシブンコウ
発光スペクトル ハツコウスペクトル