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分子線エピタキシー技術を用いた半導体量子構造の新規作製法

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分子線エピタキシー技術を用いた半導体量子構造の新規作製法

国立国会図書館請求記号
Y151-H11650001
国立国会図書館書誌ID
000007074822
資料種別
図書
著者
真下, 正夫, 弘前大学
出版者
-
出版年
1999-2000
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
ブンシセン エピタキシー ギジュツ オ モチイタ ハンドウタイ リョウシ コウゾウ ノ シンキ サクセイホウ
著者・編者
真下, 正夫, 弘前大学
著者標目
著者 : 真下, 正夫 マシタ, マサオ ( 00736810 )典拠
出版年月日等
1999-2000
出版年(W3CDTF)
1999
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(C)
件名標目
分子線エピタキシー ブンシセンエピタキシー
量子構造 リヨウシコウゾウ
半導体 ハンドウタイ
光電子半導体デバイス コウデンシハンドウタイデバイス
エピタキシヤル成長機構 エピタキシヤルセイチヨウキコウ
昇華 シヨウカ