分子線エピタキシー技術を用いた半導体量子構造の新規作製法

Notes on use

Search by Bookstore

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Material Type: 図書
Title: 分子線エピタキシー技術を用いた半導体量子構造の新規作製法
Title Transcription: ブンシセンエピタキシーギジュツオモチイタハンドウタイリョウシコウゾウノシンキサクセイホウ
Author/Editor: 真下, 正夫, 弘前大学
Author Heading: 著者：真下, 正夫マシタ, マサオ ( 00736810 )Authorities
Publication Date: 1999-2000
Publication Date (W3CDTF): 1999
Extent: 冊
Additional Title: 研究種目基盤研究(C)
Subject Heading: 分子線エピタキシーブンシセンエピタキシー
量子構造リヨウシコウゾウ
半導体ハンドウタイ
光電子半導体デバイスコウデンシハンドウタイデバイス
エピタキシヤル成長機構エピタキシヤルセイチヨウキコウ
昇華シヨウカ
NDLC: Y151
Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 11650001
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H11650001
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007074822
http://id.ndl.go.jp/bib/000007074822
Bibliographic Record Category (NDL): 214