図書

超低誘電率シリカ膜の気相堆積

図書を表すアイコン

超低誘電率シリカ膜の気相堆積

国立国会図書館請求記号
Y151-H12650022
国立国会図書館書誌ID
000007076660
資料種別
図書
著者
内田, 恭敬, 帝京科学大学
出版者
-
出版年
2000-2001
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
すべて見る

資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

書店で探す

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

資料種別
図書
タイトルよみ
チョウテイユウデンリツ シリカマク ノ キソウ タイセキ
著者・編者
内田, 恭敬, 帝京科学大学
著者標目
内田, 恭敬 ウチダ, ヤスタカ
出版年月日等
2000-2001
出版年(W3CDTF)
2000
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(C)
件名標目
low-k LOW-K
ポーラスシリカ膜 ポーラスシリカマク
TICS TICS
TMA TMA
層間絶縁膜 ソウカンゼツエンマク
空孔率 クウコウリツ