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図書
シリコン基板上3C-SiC薄膜の低温成長
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シリコン基板上3C-SiC薄膜の低温成長
国立国会図書館請求記号
Y151-H11450127
国立国会図書館書誌ID
000007077682
資料種別
図書
著者
宮里, 達郎, 九州工業大学
出版者
-
出版年
1999-2001
資料形態
紙
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記
一般注記:
文部省科学研究費補助金研究成果報告書
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書誌情報
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紙
資料種別
図書
タイトル
シリコン基板上3C-SiC薄膜の低温成長
タイトルよみ
シリコン キバン ジョウ 3C-SiC ハクマク ノ テイオン セイチョウ
著者・編者
宮里, 達郎, 九州工業大学
著者標目
宮里, 達郎
ミヤサト, タツロウ
出版年月日等
1999-2001
出版年(W3CDTF)
1999
数量
冊
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
炭化珪素
タンカケイソ
水素プラズマ
スイソプラズマ
プラズマスパツタリング
プラズマスパツタリング
低温成長
テイオンセイチヨウ
成長初期段階
セイチヨウシヨキダンカイ
活性化エネルギー
カツセイカエネルギー
シリコン基板
シリコンキバン
格子不整合
コウシフセイゴウ
NDLC
Y151
一般注記
文部省科学研究費補助金研究成果報告書
科研費課題番号
11450127
所蔵機関
国立国会図書館
請求記号
Y151-H11450127
連携機関・データベース
国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID(NDLBibID)
000007077682
http://id.ndl.go.jp/bib/000007077682
整理区分コード
214
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