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化学的機械研磨(CMP)プロセスにおける微粒子ダイナミクスの解明

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化学的機械研磨(CMP)プロセスにおける微粒子ダイナミクスの解明

国立国会図書館請求記号
Y151-H11450288
国立国会図書館書誌ID
000007077763
資料種別
図書
著者
宝沢, 光紀, 東北大学
出版者
-
出版年
1999-2001
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
カガクテキ キカイ ケンマ(CMP)プロセス ニ オケル ビリュウシ ダイナミクス ノ カイメイ
著者・編者
宝沢, 光紀, 東北大学
著者標目
宝沢, 光紀 ホウザワ, ミツノリ
出版年月日等
1999-2001
出版年(W3CDTF)
1999
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
CMP CMP
微粒子ダイナミクス ビリユウシダイナミクス
ポリスチレン粒子 ポリスチレンリユウシ
数値シミユレーシヨン スウチシミユレーシヨン
修正離散要素法 シユウセイリサンヨウソホウ
その場観察 ソノバカンサツ
レーザ顕微鏡 レーザケンビキヨウ