化学的機械研磨(CMP)プロセスにおける微粒子ダイナミクスの解明

• Material Type: 図書
• Title: 化学的機械研磨(CMP)プロセスにおける微粒子ダイナミクスの解明
• Title Transcription: カガクテキ キカイ ケンマ(CMP)プロセス ニ オケル ビリュウシ ダイナミクス ノ カイメイ
• Author/Editor: 宝沢, 光紀, 東北大学
• Author Heading: 宝沢, 光紀 ホウザワ, ミツノリ
• Publication Date: 1999-2001
• Publication Date (W3CDTF): 1999
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(B)
• Subject Heading: CMP CMP; 微粒子ダイナミクス ビリユウシダイナミクス; ポリスチレン粒子 ポリスチレンリユウシ; 数値シミユレーシヨン スウチシミユレーシヨン; 修正離散要素法 シユウセイリサンヨウソホウ; その場観察 ソノバカンサツ; レーザ顕微鏡 レーザケンビキヨウ
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 11450288
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H11450288
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007077763; http://id.ndl.go.jp/bib/000007077763
• Bibliographic Record Category (NDL): 214