高性能ビーム装置を用いる表面反応過程の研究

• 資料種別: 図書
• タイトル: 高性能ビーム装置を用いる表面反応過程の研究
• タイトルよみ: コウセイノウ ビーム ソウチ オ モチイル ヒョウメン ハンノウ カテイ ノ ケンキュウ
• 著者・編者: 菅井, 秀郎, 名古屋大学
• 著者標目: 菅井, 秀郎 スガイ, ヒデオ
• 出版年月日等: 1998-2001
• 出版年（W3CDTF）: 1998
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(A)
• 件名標目: プラズマプロセス プラズマプロセス; エツチング エツチング; CVD CVD; 表面反応 ヒヨウメンハンノウ; 中性ラジカル チユウセイラジカル; イオンビーム イオンビーム; シリコン シリコン; XPS XPS
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 10308016
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H10308016
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007080338; http://id.ndl.go.jp/bib/000007080338
• 整理区分コード: 214