静電噴霧沈着法による組成及び膜構造の制御された無機薄膜の製造装置開発

• 資料種別: 図書
• タイトル: 静電噴霧沈着法による組成及び膜構造の制御された無機薄膜の製造装置開発
• タイトルよみ: セイデンフンム チンチャクホウ ニ ヨル ソセイ オヨビ マク コウゾウ ノ セイギョ サレタ ムキ ハクマク ノ セイゾウ ソウチ カイハツ
• 著者・編者: 大谷, 吉生, 金沢大学
• 著者標目: 大谷, 吉生 オオタニ, ヨシオ
• 出版年月日等: 1999-2001
• 出版年（W3CDTF）: 1999
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 件名標目: 静電噴霧沈着法 セイデンフンムチンチヤクホウ; LiMn2O4 LIMN2O4; LiCoO2 LICOO2; セラミツクス薄膜 セラミツクスハクマク
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 11555206
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H11555206
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007081044; http://id.ndl.go.jp/bib/000007081044
• 整理区分コード: 214