静電噴霧沈着法による組成及び膜構造の制御された無機薄膜の製造装置開発

• Material Type: 図書
• Title: 静電噴霧沈着法による組成及び膜構造の制御された無機薄膜の製造装置開発
• Title Transcription: セイデンフンム チンチャクホウ ニ ヨル ソセイ オヨビ マク コウゾウ ノ セイギョ サレタ ムキ ハクマク ノ セイゾウ ソウチ カイハツ
• Author/Editor: 大谷, 吉生, 金沢大学
• Author Heading: 大谷, 吉生 オオタニ, ヨシオ
• Publication Date: 1999-2001
• Publication Date (W3CDTF): 1999
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(B)
• Subject Heading: 静電噴霧沈着法 セイデンフンムチンチヤクホウ; LiMn2O4 LIMN2O4; LiCoO2 LICOO2; セラミツクス薄膜 セラミツクスハクマク
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 11555206
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H11555206
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007081044; http://id.ndl.go.jp/bib/000007081044
• Bibliographic Record Category (NDL): 214