静電噴霧沈着法による組成及び膜構造の制御された無機薄膜の製造装置開発

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Material Type: 図書
Title: 静電噴霧沈着法による組成及び膜構造の制御された無機薄膜の製造装置開発
Title Transcription: セイデンフンムチンチャクホウニヨルソセイオヨビマクコウゾウノセイギョサレタムキハクマクノセイゾウソウチカイハツ
Author/Editor: 大谷, 吉生, 金沢大学
Author Heading: 大谷, 吉生オオタニ, ヨシオ
Publication Date: 1999-2001
Publication Date (W3CDTF): 1999
Extent: 冊
Additional Title: 研究種目基盤研究(B)
Subject Heading: 静電噴霧沈着法セイデンフンムチンチヤクホウ
LiMn2O4 LIMN2O4
LiCoO2 LICOO2
セラミツクス薄膜セラミツクスハクマク
NDLC: Y151
Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 11555206
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H11555206
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007081044
http://id.ndl.go.jp/bib/000007081044
Bibliographic Record Category (NDL): 214