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半導体プロセス汚染不純物元素の超高感度分析

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半導体プロセス汚染不純物元素の超高感度分析

国立国会図書館請求記号
Y151-H11694157
国立国会図書館書誌ID
000007081441
資料種別
図書
著者
高井, 幹夫, 大阪大学
出版者
-
出版年
1999-2001
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
ハンドウタイ プロセス オセン フジュンブツ ゲンソ ノ チョウコウカンド ブンセキ
著者・編者
高井, 幹夫, 大阪大学
著者標目
高井, 幹夫 タカイ, ミキオ
出版年月日等
1999-2001
出版年(W3CDTF)
1999
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(A)
件名標目
超先端高密度集積回路素子 チヨウセンタンコウミツドシユウセキカイロソシ
極微量プロセス汚染元素 キヨクビリヨウプロセスオセンゲンソ
イオンプローブ イオンプローブ
超高感度局所分析技術 チヨウコウカンドキヨクシヨブンセキギジユツ
汚染分析技術 オセンブンセキギジユツ
汚染重金属元素 オセンジユウキンゾクゲンソ
TOF-RBS分析技術 TOF-RBSブンセキギジユツ
電界放出電子源 デンカイホウシユツデンシゲン