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半導体プロセス汚染不純物元素の超高感度分析

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半導体プロセス汚染不純物元素の超高感度分析

Call No. (NDL)
Y151-H11694157
Bibliographic ID of National Diet Library
000007081441
Material type
図書
Author
高井, 幹夫, 大阪大学
Publisher
-
Publication date
1999-2001
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
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Notes on use

Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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Bibliographic Record

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
ハンドウタイ プロセス オセン フジュンブツ ゲンソ ノ チョウコウカンド ブンセキ
Author/Editor
高井, 幹夫, 大阪大学
Author Heading
高井, 幹夫 タカイ, ミキオ
Publication Date
1999-2001
Publication Date (W3CDTF)
1999
Extent
Additional Title
研究種目 基盤研究(A)
Subject Heading
超先端高密度集積回路素子 チヨウセンタンコウミツドシユウセキカイロソシ
極微量プロセス汚染元素 キヨクビリヨウプロセスオセンゲンソ
イオンプローブ イオンプローブ
超高感度局所分析技術 チヨウコウカンドキヨクシヨブンセキギジユツ
汚染分析技術 オセンブンセキギジユツ
汚染重金属元素 オセンジユウキンゾクゲンソ
TOF-RBS分析技術 TOF-RBSブンセキギジユツ
電界放出電子源 デンカイホウシユツデンシゲン