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段階投資型半導体生産ラインを実現するプロセスガス解離完全制御プラズマプロセス技術

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段階投資型半導体生産ラインを実現するプロセスガス解離完全制御プラズマプロセス技術

国立国会図書館請求記号
Y151-H12355014
国立国会図書館書誌ID
000007081669
資料種別
図書
著者
大見, 忠弘, 東北大学
出版者
-
出版年
2000-2001
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
ダンカイ トウシガタ ハンドウタイ セイサン ライン オ ジツゲン スル プロセスガス カイリ カンゼン セイギョ プラズマプロセス ギジュツ
著者・編者
大見, 忠弘, 東北大学
著者標目
大見, 忠弘 オオミ, タダヒロ
出版年月日等
2000-2001
出版年(W3CDTF)
2000
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(A)
件名標目
LSI LSI
RLSA RLSA
シヤワープレート シヤワープレート
クラスターツール クラスターツール
段階投資 ダンカイトウシ
半導体生産 ハンドウタイセイサン
マイクロ波プラズマ マイクロハプラズマ
エツチング エツチング