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原子層選択成長を利用した超微細トランジスタ作製法の研究

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原子層選択成長を利用した超微細トランジスタ作製法の研究

国立国会図書館請求記号
Y151-H11450125
国立国会図書館書誌ID
000007083323
資料種別
図書
著者
横山, 新, 広島大学
出版者
-
出版年
1999-2001
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
ゲンシソウ センタク セイチョウ オ リヨウ シタ チョウビサイ トランジスタ サクセイホウ ノ ケンキュウ
著者・編者
横山, 新, 広島大学
著者標目
横山, 新 ヨコヤマ, シン
出版年月日等
1999-2001
出版年(W3CDTF)
1999
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
シリコン選択成長 シリコンセンタクセイチヨウ
原子層成長 ゲンシソウセイチヨウ
自己停止機構 ジコテイシキコウ
塩化水素脱離反応 エンカスイソダツリハンノウ
2インチSiウエハ 2インチSIウエハ
ガスフロ-パタ-ン ガスフロ-パタ-ン
金属触媒 キンゾクシヨクバイ
光・熱触媒反応 ヒカリ・ネツシヨクバイハンノウ