白金の触媒作用を用いるMOSデバイスゲ-ト酸化膜の絶縁耐圧性の向上

• 資料種別: 図書
• タイトル: 白金の触媒作用を用いるMOSデバイスゲ-ト酸化膜の絶縁耐圧性の向上
• タイトルよみ: ハッキン ノ ショクバイ サヨウ オ モチイル MOS デバイスゲ-ト サンカマク ノ ゼツエン タイアツセイ ノ コウジョウ
• 著者・編者: 小林, 光, 大阪大学
• 著者標目: 小林, 光 コバヤシ, ヒカル
• 出版年月日等: 2000-2002
• 出版年（W3CDTF）: 2000
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 件名標目: 白金処理 ハツキンシヨリ; リ-ク電流 リ-クデンリユウ; MOS MOS; シリコン シリコン; SiO_2 SIO_2; 化学酸化 カガクサンカ; 低温プロセス テイオンプロセス; Si/SiO_2界面 SI/SIO_2カイメン
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 12450127
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H12450127
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007084509; http://id.ndl.go.jp/bib/000007084509
• 整理区分コード: 214