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液体原料気化CVD法による誘電体薄膜の製造とプロセスシミユレ-タの開発

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液体原料気化CVD法による誘電体薄膜の製造とプロセスシミユレ-タの開発

国立国会図書館請求記号
Y151-H12450319
国立国会図書館書誌ID
000007084587
資料種別
図書
著者
奥山, 喜久夫, 広島大学
出版者
-
出版年
2000-2002
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
エキタイ ゲンリョウ キカ CVD ホウ ニ ヨル ユウデンタイ ハクマク ノ セイゾウ ト プロセスシミユレ-タ ノ カイハツ
著者・編者
奥山, 喜久夫, 広島大学
著者標目
著者 : 奥山, 喜久夫, 1948- オクヤマ, キクオ, 1948- ( 00220339 )典拠
出版年月日等
2000-2002
出版年(W3CDTF)
2000
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
CVD法 CVDホウ
高誘電体材料 コウユウデンタイザイリヨウ
薄膜 ハクマク
液体気化法 エキタイキカホウ
気相反応 キソウハンノウ
グレイン グレイン
有機金属 ユウキキンゾク
輸送現象 ユソウゲンシヨウ