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液体原料気化CVD法による誘電体薄膜の製造とプロセスシミユレ-タの開発

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液体原料気化CVD法による誘電体薄膜の製造とプロセスシミユレ-タの開発

Call No. (NDL)
Y151-H12450319
Bibliographic ID of National Diet Library
000007084587
Material type
図書
Author
奥山, 喜久夫, 広島大学
Publisher
-
Publication date
2000-2002
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
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Notes on use

Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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Bibliographic Record

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
エキタイ ゲンリョウ キカ CVD ホウ ニ ヨル ユウデンタイ ハクマク ノ セイゾウ ト プロセスシミユレ-タ ノ カイハツ
Author/Editor
奥山, 喜久夫, 広島大学
Author Heading
著者 : 奥山, 喜久夫, 1948- オクヤマ, キクオ, 1948- ( 00220339 )Authorities
Publication Date
2000-2002
Publication Date (W3CDTF)
2000
Extent
Additional Title
研究種目 基盤研究(B)
Subject Heading
CVD法 CVDホウ
高誘電体材料 コウユウデンタイザイリヨウ
薄膜 ハクマク
液体気化法 エキタイキカホウ
気相反応 キソウハンノウ
グレイン グレイン
有機金属 ユウキキンゾク
輸送現象 ユソウゲンシヨウ