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シリコン基板上の化合物半導体低温ヘテロエピタキシ-成長

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シリコン基板上の化合物半導体低温ヘテロエピタキシ-成長

国立国会図書館請求記号
Y151-H12555190
国立国会図書館書誌ID
000007085225
資料種別
図書
著者
大山, 昌憲, 東京工業高等専門学校
出版者
-
出版年
2000-2002
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
シリコン キバン ジョウ ノ カゴウブツ ハンドウタイ テイオン ヘテロエピタキシ-セイチョウ
著者・編者
大山, 昌憲, 東京工業高等専門学校
著者標目
大山, 昌憲 オオヤマ, マサノリ
出版年月日等
2000-2002
出版年(W3CDTF)
2000
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
低温結晶成長 テイオンケツシヨウセイチヨウ
化合物半導体薄膜 カゴウブツハンドウタイハクマク
ヘテロエピタキシ- ヘテロエピタキシ-
ドライプロセス ドライプロセス
イオンアシスト イオンアシスト
光学材料 コウガクザイリヨウ
電子ビ-ム蒸着 デンシビ-ムジヨウチヤク
スパツタリング スパツタリング