シリコン基板上の化合物半導体低温ヘテロエピタキシ-成長

• Material Type: 図書
• Title: シリコン基板上の化合物半導体低温ヘテロエピタキシ-成長
• Title Transcription: シリコン キバン ジョウ ノ カゴウブツ ハンドウタイ テイオン ヘテロエピタキシ-セイチョウ
• Author/Editor: 大山, 昌憲, 東京工業高等専門学校
• Author Heading: 大山, 昌憲 オオヤマ, マサノリ
• Publication Date: 2000-2002
• Publication Date (W3CDTF): 2000
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(B)
• Subject Heading: 低温結晶成長 テイオンケツシヨウセイチヨウ; 化合物半導体薄膜 カゴウブツハンドウタイハクマク; ヘテロエピタキシ- ヘテロエピタキシ-; ドライプロセス ドライプロセス; イオンアシスト イオンアシスト; 光学材料 コウガクザイリヨウ; 電子ビ-ム蒸着 デンシビ-ムジヨウチヤク; スパツタリング スパツタリング
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 12555190
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H12555190
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007085225; http://id.ndl.go.jp/bib/000007085225
• Bibliographic Record Category (NDL): 214