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高耐熱性低誘電率層間絶縁膜に関する研究

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高耐熱性低誘電率層間絶縁膜に関する研究

国立国会図書館請求記号
Y151-H12650323
国立国会図書館書誌ID
000007086202
資料種別
図書
著者
原, 徹, 法政大学
出版者
-
出版年
2000-2002
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
コウタイネツセイ テイユウデンリツソウ カン ゼツエンマク ニ カンスル ケンキュウ
著者・編者
原, 徹, 法政大学
著者標目
原, 徹 ハラ, トオル
出版年月日等
2000-2002
出版年(W3CDTF)
2000
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(C)
件名標目
超LSI高速化 チヨウLSIコウソクカ
多層配線層 タソウハイセンソウ
低誘電率層間膜 テイユウデンリツソウカンマク
耐熱性向上 タイネツセイコウジヨウ
定着力向上 テイチヤクリヨクコウジヨウ
界面反応 カイメンハンノウ