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4族半導体の極薄酸化膜の界面評価に関する研究

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4族半導体の極薄酸化膜の界面評価に関する研究

国立国会図書館請求記号
Y151-H13450120
国立国会図書館書誌ID
000007087578
資料種別
図書
著者
吉田, 貞史, 埼玉大学
出版者
-
出版年
2001-2002
資料形態
紙
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記：

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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紙

資料種別
図書
タイトル
4族半導体の極薄酸化膜の界面評価に関する研究
タイトルよみ
4 ゾク ハンドウタイ ノ ゴクウス サンカマク ノ カイメン ヒョウカ ニ カンスル ケンキュウ
著者・編者
吉田, 貞史, 埼玉大学
著者標目
著者 ： 吉田, 貞史 ヨシダ, サダフミ ( 00200038 )典拠
出版年月日等
2001-2002
出版年（W3CDTF）
2001
数量
冊
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
IV族半導体 IVゾクハンドウタイ
炭化珪素 (SiC) タンカケイソ (SIC)
酸化膜 サンカマク
界面 カイメン
分光エリプソメトリ ブンコウエリプソメトリ
X線光電子分光 Xセンコウデンシブンコウ