制限反応スパツタ製膜法による高誘電率YSZ絶縁膜の研究

• 資料種別: 図書
• タイトル: 制限反応スパツタ製膜法による高誘電率YSZ絶縁膜の研究
• タイトルよみ: セイゲン ハンノウ スパツタセイマクホウ ニ ヨル コウユウデンリツ YSZ ゼツエンマク ノ ケンキュウ
• 著者・編者: 佐々木, 公洋, 金沢大学
• 著者標目: 著者 ： 佐々木, 公洋, 1958- ササキ, キミヒロ, 1958- ( 01039962 )典拠
• 出版年月日等: 2001-2002
• 出版年（W3CDTF）: 2001
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(C)
• 件名標目: 制限反応スパツタ セイゲンハンノウスパツタ; ZrO_2 ZRO_2; 高誘電率 コウユウデンリツ; 金属モ-ドスパツタ キンゾクモ-ドスパツタ; ゲ-ト絶縁膜 ゲ-トゼツエンマク
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 13650338
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H13650338
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007089282; http://id.ndl.go.jp/bib/000007089282
• 整理区分コード: 214