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図書
制限反応スパツタ製膜法による高誘電率YSZ絶縁膜の研究
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制限反応スパツタ製膜法による高誘電率YSZ絶縁膜の研究
国立国会図書館請求記号
Y151-H13650338
国立国会図書館書誌ID
000007089282
資料種別
図書
著者
佐々木, 公洋, 金沢大学
出版者
-
出版年
2001-2002
資料形態
紙
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記
一般注記:
文部省科学研究費補助金研究成果報告書
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書誌情報
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紙
資料種別
図書
タイトル
制限反応スパツタ製膜法による高誘電率YSZ絶縁膜の研究
タイトルよみ
セイゲン ハンノウ スパツタセイマクホウ ニ ヨル コウユウデンリツ YSZ ゼツエンマク ノ ケンキュウ
著者・編者
佐々木, 公洋, 金沢大学
著者標目
著者 :
佐々木, 公洋
ササキ, キミヒロ (
01039962
)
典拠
出版年月日等
2001-2002
出版年(W3CDTF)
2001
数量
冊
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(C)
件名標目
制限反応スパツタ
セイゲンハンノウスパツタ
ZrO_2
ZRO_2
高誘電率
コウユウデンリツ
金属モ-ドスパツタ
キンゾクモ-ドスパツタ
ゲ-ト絶縁膜
ゲ-トゼツエンマク
NDLC
Y151
一般注記
文部省科学研究費補助金研究成果報告書
科研費課題番号
13650338
所蔵機関
国立国会図書館
請求記号
Y151-H13650338
連携機関・データベース
国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID(NDLBibID)
000007089282
http://id.ndl.go.jp/bib/000007089282
整理区分コード
214
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