制限反応スパツタ製膜法による高誘電率YSZ絶縁膜の研究

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Material Type: 図書
Title: 制限反応スパツタ製膜法による高誘電率YSZ絶縁膜の研究
Title Transcription: セイゲンハンノウスパツタセイマクホウニヨルコウユウデンリツ YSZ ゼツエンマクノケンキュウ
Author/Editor: 佐々木, 公洋, 金沢大学
Author Heading: 著者：佐々木, 公洋ササキ, キミヒロ ( 01039962 )Authorities
Publication Date: 2001-2002
Publication Date (W3CDTF): 2001
Extent: 冊
Additional Title: 研究種目基盤研究(C)
Subject Heading: 制限反応スパツタセイゲンハンノウスパツタ
ZrO_2 ZRO_2
高誘電率コウユウデンリツ
金属モ-ドスパツタキンゾクモ-ドスパツタ
ゲ-ト絶縁膜ゲ-トゼツエンマク
NDLC: Y151
Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 13650338
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H13650338
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007089282
http://id.ndl.go.jp/bib/000007089282
Bibliographic Record Category (NDL): 214