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半導体Cu配線形成に用いるめっき添加剤のメカニズム

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半導体Cu配線形成に用いるめっき添加剤のメカニズム

国立国会図書館請求記号
Y151-H13650781
国立国会図書館書誌ID
000007089553
資料種別
図書
著者
近藤, 和夫, 岡山大学
出版者
-
出版年
2001-2002
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
ハンドウタイ Cu ハイセン ケイセイ ニ モチイル メッキ テンカザイ ノ メカニズム
著者・編者
近藤, 和夫, 岡山大学
著者標目
近藤, 和夫 コンドウ, カズオ
出版年月日等
2001-2002
出版年(W3CDTF)
2001
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(C)
件名標目
Cu配線 CUハイセン
Cuめっき CUメツキ
添加剤 テンカザイ
抑制作用 ヨクセイサヨウ
促進作用 ソクシンサヨウ
メカニズム メカニズム