半導体用高分子材料の評価技術とその最新動向 : 材料の研究開発の課題解決のために

• 資料種別: 図書
• タイトル: 半導体用高分子材料の評価技術とその最新動向 : 材料の研究開発の課題解決のために
• タイトルよみ: ハンドウタイヨウ コウブンシ ザイリョウ ノ ヒョウカ ギジュツ ト ソノ サイシン ドウコウ : ザイリョウ ノ ケンキュウ カイハツ ノ カダイ カイケツ ノ タメニ
• 著者標目: 住ベテクノリサーチ株式会社 スミベ テクノリサーチ カブシキ ガイシャ ( 00957781 )典拠
• 出版事項: 横浜 : 住ベテクノリサーチ
• 出版年月日等: 2000.4
• 出版年（W3CDTF）: 2000
• 数量: 187p
• 大きさ: 30cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 半導体 ハンドウタイ ( 00562913 )典拠; 高分子材料 コウブンシ ザイリョウ ( 00575285 )典拠
• NDC9版: 549.8 : 電子工学
• NDLC: ND371
• 対象利用者: 一般
• 書誌注記: 文献あり
• 入手条件・定価: 95000円
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: ND371-H70
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007502293; http://id.ndl.go.jp/bib/000007502293
• 全国書誌番号: 20685631
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版
• 整理区分コード: 111

目次

目次

第1章 緒言/ 1

第2章 半導体用高分子材料の評価技術の最新動向/ 2

第3章 ウェハ回路パターン作成工程（前工程）における高分子材料の課題と評価技術/ 4

3.1 フォトレジスト膜用材料の微細加工性の課題と評価技術/ 4