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Table of Contents
目次
第1章 緒言/ 1
第2章 半導体用高分子材料の評価技術の最新動向/ 2
第3章 ウェハ回路パターン作成工程(前工程)における高分子材料の課題と評価技術/ 4
3.1 フォトレジスト膜用材料の微細加工性の課題と評価技術/ 4
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 図書
- Title Transcription
- ハンドウタイヨウ コウブンシ ザイリョウ ノ ヒョウカ ギジュツ ト ソノ サイシン ドウコウ : ザイリョウ ノ ケンキュウ カイハツ ノ カダイ カイケツ ノ タメニ
- Author Heading
- 住ベテクノリサーチ株式会社 スミベ テクノリサーチ カブシキ ガイシャ ( 00957781 )Authorities
- Publication, Distribution, etc.
- Publication Date
- 2000.4
- Publication Date (W3CDTF)
- 2000
- Extent
- 187p
- Size
- 30cm
- Place of Publication (Country Code)
- JP