Photomask and next-generation lithography mask technology 11 : 14-16 April 2004 : Yokohama, Japan.

• 資料種別: 図書
• ISBN（セット）: 0819453692 (set)
• ISSN（シリーズ）: 0277-786X
• タイトル: Photomask and next-generation lithography mask technology 11 : 14-16 April 2004 : Yokohama, Japan.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 5446
• タイトル標目: Proceedings of SPIE; v. 5446.
• 著者標目: Institute of Electrical Engineers of Japan.; Tanabe, Hiroyoshi.
• 出版事項: Bellingham : SPIE
• 出版年月日等: c2004.
• 出版年（W3CDTF）: 2004
• 数量: 2 parts : ill. (some col.) ; 28 cm.
• その他のタイトル: photomask Japan 2004 symposium : Apr 2004, Yokohama, Japan.
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Masks (Electronics) -- Congresses.; Integrated circuits -- Masks -- Congresses.; X-ray lithography -- Congresses.; Microlithography -- Congresses.; Optoelectronic devices -- Design and construction -- Congresses.
• LCC: TR220.
• NDLC: M17
• 一般注記: Papers.; " (...) 11th international symposium on this topic held in Japan." -- p. xxiii.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-04-3669
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007524072; http://id.ndl.go.jp/bib/000007524072
• RLIN番号: NYCGQ4882492-B
• 整理区分コード: 215