Photomask and next-generation lithography mask technology 11 : 14-16 April 2004 : Yokohama, Japan. : photomask Japan 2004 symposium : Apr 2004, Yokohama, Japan. (SPIE Proceedings ; 5446)

Photomask and next-generation lithography mask technology 11 : 14-16 April 2004 : Yokohama, Japan. : photomask Japan 2004 symposium : Apr 2004, Yokohama, Japan.

(SPIE Proceedings ; 5446)

国立国会図書館請求記号: M17-04-3669
国立国会図書館書誌ID: 000007524072

資料種別: 図書

著者: Institute of Electrical Engineers of Japan.ほか

出版者: SPIE

出版年: c2004.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: 2 parts : ill. (some col.) ; 28 cm.

NDC: -

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資料に関する注記

一般注記：: Papers." (...) 11th international symposium on this topic held in Japan." -- p. xxiii.

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN（セット）: 0819453692 (set)
ISSN（シリーズ）: 0277-786X
タイトル: Photomask and next-generation lithography mask technology 11 : 14-16 April 2004 : Yokohama, Japan. : photomask Japan 2004 symposium : Apr 2004, Yokohama, Japan.
シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 5446
タイトル標目: Proceedings of SPIE; v. 5446.
著者標目: Institute of Electrical Engineers of Japan.
Tanabe, Hiroyoshi.
出版事項: Bellingham : SPIE
出版年月日等: c2004.
出版年（W3CDTF）: 2004
数量: 2 parts : ill. (some col.) ; 28 cm.
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
件名標目: Masks (Electronics) -- Congresses.
Integrated circuits -- Masks -- Congresses.
X-ray lithography -- Congresses.
Microlithography -- Congresses.
Optoelectronic devices -- Design and construction -- Congresses.
LCC: TR220.
NDLC: M17
一般注記: Papers.
" (...) 11th international symposium on this topic held in Japan." -- p. xxiii.
書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-04-3669
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000007524072
http://id.ndl.go.jp/bib/000007524072
RLIN番号: NYCGQ4882492-B
整理区分コード: 215