In situ mass spectroscopic study of temperature effect on reactions of hydrogen and oxygen atoms with hydrogen-terminated silicon surfaces

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: In situ mass spectroscopic study of temperature effect on reactions of hydrogen and oxygen atoms with hydrogen-terminated silicon surfaces
• 著者・編者: F.H.M.Faridur Rahman [著]
• 著者標目: F.H.M.Faridur Rahman ファリドール ラハマン
• 出版事項: [F.H.M.Faridur Rahman]
• 出版年月日等: 2004
• 出版年（W3CDTF）: 2004
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: その場質量分析法を用いた水素及び酸素原子と水素終端シリコン表面反応の温度効果に関する研究 ソノバ シツリョウ ブンセキホウ オ モチイタ スイソ オヨビ サンソ ゲンシ ト スイソ シュウタン シリコン ヒョウメン ハンノウ ノ オンド コウカ ニ カンスル ケンキュウ
• 授与機関名: 九州工業大学
• 授与年月日: 平成16年3月25日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2004
• 報告番号: 甲第210号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2004-M455
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007558391; http://id.ndl.go.jp/bib/000007558391
• 整理区分コード: 213