角度分解X線光電子分光法による高誘電体薄膜/シリコン界面構造の深さ方向分析

• 資料種別: 図書
• タイトル: 角度分解X線光電子分光法による高誘電体薄膜/シリコン界面構造の深さ方向分析
• タイトルよみ: カクド ブンカイ Xセン コウデンシ ブンコウホウ ニ ヨル コウユウデンタイ ハクマク シリコン カイメン コウゾウ ノ フカサ ホウコウ ブンセキ
• 著者・編者: 野平博司, 武蔵工業大学 [著]
• 著者標目: 野平, 博司 ノヒラ, ヒロシ; 武蔵工業大学 ムサシ コウギョウ ダイガク
• 出版事項: [野平博司]
• 出版年月日等: 2002-2003; 2004.3
• 出版年（W3CDTF）: 2002; 2003
• 数量: 29p
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(C)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn; eng
• 件名標目: 高誘電率材料 / 角度分解X線光電子分光法 / 絶縁膜/Si界面 / 希土類酸化膜 / 深さ方向元素分布 コウユウデンリツ ザイリョウ / カクド ブンカイ Xセン コウデンシ ブンコウホウ / ゼツエンマク/Si カイメン / キドルイ サンカマク / フカサ ホウコウ ゲンソ ブンプ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 14550029
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H14550029
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007592758; http://id.ndl.go.jp/bib/000007592758
• 整理区分コード: 214