角度分解X線光電子分光法による高誘電体薄膜/シリコン界面構造の深さ方向分析

Call No. (NDL): Y151-H14550029
Bibliographic ID of National Diet Library: 000007592758

Material type: 図書

Author: 野平博司, 武蔵工業大学 [著]

Publisher: [野平博司]

Publication date: 2002-2003

Material Format: Paper

Capacity, size, etc.: 29p

NDC: -

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Note (General)：: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書

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Paper

Material Type: 図書
Title: 角度分解X線光電子分光法による高誘電体薄膜/シリコン界面構造の深さ方向分析
Title Transcription: カクドブンカイ Xセンコウデンシブンコウホウニヨルコウユウデンタイハクマクシリコンカイメンコウゾウノフカサホウコウブンセキ
Author/Editor: 野平博司, 武蔵工業大学 [著]
Author Heading: 野平, 博司ノヒラ, ヒロシ
武蔵工業大学ムサシコウギョウダイガク
Publication, Distribution, etc.: [野平博司]
Publication Date: 2002-2003
2004.3
Publication Date (W3CDTF): 2002
2003
Extent: 29p
Additional Title: 研究種目基盤研究(C)
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
eng
Subject Heading: 高誘電率材料 / 角度分解X線光電子分光法 / 絶縁膜/Si界面 / 希土類酸化膜 / 深さ方向元素分布コウユウデンリツザイリョウ / カクドブンカイ Xセンコウデンシブンコウホウ / ゼツエンマク/Si カイメン / キドルイサンカマク / フカサホウコウゲンソブンプ
NDLC: Y151
Note (General): 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 14550029
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H14550029
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007592758
http://id.ndl.go.jp/bib/000007592758
Bibliographic Record Category (NDL): 214