半導体表面におけるナノ構造の緩和過程

• 資料種別: 図書
• タイトル: 半導体表面におけるナノ構造の緩和過程
• タイトルよみ: ハンドウタイ ヒョウメン ニ オケル ナノ コウゾウ ノ カンワ カテイ
• 著者・編者: 一宮彪彦, 名古屋大学 [著]
• 著者標目: 一宮, 彪彦 イチミヤ, アヤヒコ; 名古屋大学 ナゴヤ ダイガク
• 出版事項: [一宮彪彦]
• 出版年月日等: 2001-2003; 2004.3
• 出版年（W3CDTF）: 2001; 2003
• 数量: 55p
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn; eng
• 件名標目: シリコン / ナノ構造 / ステップダイナミックス / 走査トンネル顕微鏡 / シリコン表面 シリコン / ナノ コウゾウ / ステップダイナミックス / ソウサ トンネル ケンビキョウ / シリコン ヒョウメン
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 13450021
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H13450021
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007604116; http://id.ndl.go.jp/bib/000007604116
• 整理区分コード: 214