半導体表面におけるナノ構造の緩和過程

• Material Type: 図書
• Title: 半導体表面におけるナノ構造の緩和過程
• Title Transcription: ハンドウタイ ヒョウメン ニ オケル ナノ コウゾウ ノ カンワ カテイ
• Author/Editor: 一宮彪彦, 名古屋大学 [著]
• Author Heading: 著者 ： 一宮, 彪彦, 1940- イチミヤ, アヤヒコ, 1940- ( 001197205 )Authorities; 名古屋大学 ナゴヤ ダイガク ( 00260057 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: [一宮彪彦]
• Publication Date: 2001-2003; 2004.3
• Publication Date (W3CDTF): 2001; 2003
• Extent: 55p
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(B)
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn; eng
• Subject Heading: シリコン / ナノ構造 / ステップダイナミックス / 走査トンネル顕微鏡 / シリコン表面 シリコン / ナノ コウゾウ / ステップダイナミックス / ソウサ トンネル ケンビキョウ / シリコン ヒョウメン
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 13450021
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H13450021
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007604116; http://id.ndl.go.jp/bib/000007604116
• Bibliographic Record Category (NDL): 214