低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積CxFy膜を用いたSF6代替絶縁方式の開発

• 資料種別: 図書
• タイトル: 低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積CxFy膜を用いたSF6代替絶縁方式の開発
• タイトルよみ: テイユウデンリツ コウ ゼツエン タイリョク プラズマ タイセキ CxFyマク オ モチイタ SF6 ダイタイ ゼツエン ホウシキ ノ カイハツ
• 著者・編者: 酒井洋輔, 北海道大学 [著]
• 著者標目: 著者 ： 酒井, 洋輔, 1944- サカイ, ヨウスケ, 1944- ( 01240935 )典拠; 北海道大学 ホッカイドウ ダイガク ( 00260056 )典拠
• 出版事項: [酒井洋輔]
• 出版年月日等: 2001-2003; 2004.3
• 出版年（W3CDTF）: 2001; 2003
• 数量: 1冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn; eng
• 件名標目: 非平衡プラズマ / フルオロカーボン / 薄膜堆積 / 電気絶縁 ヒヘイコウ プラズマ / フルオロカーボン / ハクマク タイセキ / デンキ ゼツエン
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 13555077
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H13555077
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007625337; http://id.ndl.go.jp/bib/000007625337
• 整理区分コード: 214