低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積CxFy膜を用いたSF6代替絶縁方式の開発

Notes on use

Search by Bookstore

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Material Type: 図書
Title: 低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積CxFy膜を用いたSF6代替絶縁方式の開発
Title Transcription: テイユウデンリツコウゼツエンタイリョクプラズマタイセキ CxFyマクオモチイタ SF6 ダイタイゼツエンホウシキノカイハツ
Author/Editor: 酒井洋輔, 北海道大学 [著]
Author Heading: 著者：酒井, 洋輔, 1944- サカイ, ヨウスケ, 1944- ( 01240935 )Authorities
北海道大学ホッカイドウダイガク ( 00260056 )Authorities
Publication, Distribution, etc.: [酒井洋輔]
Publication Date: 2001-2003
2004.3
Publication Date (W3CDTF): 2001
2003
Extent: 1冊
Additional Title: 研究種目基盤研究(B)
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
eng
Subject Heading: 非平衡プラズマ / フルオロカーボン / 薄膜堆積 / 電気絶縁ヒヘイコウプラズマ / フルオロカーボン / ハクマクタイセキ / デンキゼツエン
NDLC: Y151
Note (General): 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 13555077
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H13555077
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007625337
http://id.ndl.go.jp/bib/000007625337
Bibliographic Record Category (NDL): 214