光放射圧制御ナノCMP加工装置の開発

• 資料種別: 図書
• タイトル: 光放射圧制御ナノCMP加工装置の開発
• タイトルよみ: ヒカリ ホウシャアツ セイギョ ナノ CMP カコウ ソウチ ノ カイハツ
• 著者・編者: 三好隆志, 大阪大学 [著]
• 著者標目: 三好, 隆志 ミヨシ, タカシ; 大阪大学 オオサカ ダイガク
• 出版事項: [三好隆志]
• 出版年月日等: 2001-2003; 2004.3
• 出版年（W3CDTF）: 2001; 2003
• 数量: 107p
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(A)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 光放射圧 / ナノテクノロジー / 研磨加工 / CMP / 平坦化 / レーザトラップ / シリコンウエハ / 半導体 ヒカリ ホウシャアツ / ナノテクノロジー / ケンマ カコウ / CMP / ヘイタンカ / レーザトラップ / シリコンウエハ / ハンドウタイ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 13355006
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H13355006
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007629525; http://id.ndl.go.jp/bib/000007629525
• 整理区分コード: 214