光放射圧制御ナノCMP加工装置の開発

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Material Type: 図書
Title: 光放射圧制御ナノCMP加工装置の開発
Title Transcription: ヒカリホウシャアツセイギョナノ CMP カコウソウチノカイハツ
Author/Editor: 三好隆志, 大阪大学 [著]
Author Heading: 三好, 隆志ミヨシ, タカシ
大阪大学オオサカダイガク
Publication, Distribution, etc.: [三好隆志]
Publication Date: 2001-2003
2004.3
Publication Date (W3CDTF): 2001
2003
Extent: 107p
Additional Title: 研究種目基盤研究(A)
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
Subject Heading: 光放射圧 / ナノテクノロジー / 研磨加工 / CMP / 平坦化 / レーザトラップ / シリコンウエハ / 半導体ヒカリホウシャアツ / ナノテクノロジー / ケンマカコウ / CMP / ヘイタンカ / レーザトラップ / シリコンウエハ / ハンドウタイ
NDLC: Y151
Note (General): 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 13355006
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H13355006
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007629525
http://id.ndl.go.jp/bib/000007629525
Bibliographic Record Category (NDL): 214