極短紫外線縮小リソグラフィーのための斜め入射光による反射型マスクパターン転写特性に関する研究

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 極短紫外線縮小リソグラフィーのための斜め入射光による反射型マスクパターン転写特性に関する研究
• タイトルよみ: キョクタン シガイセン シュクショウ リソグラフィー ノ タメノ ナナメ ニュウシャコウ ニ ヨル ハンシャガタ マスク パターン テンシャ トクセイ ニ カンスル ケンキュウ
• 著者・編者: 菅原稔 [著]
• 著者標目: 菅原, 稔 スガワラ, ミノル
• 出版事項: [菅原稔]
• 出版年月日等: 2005
• 出版年（W3CDTF）: 2005
• 数量: 1冊
• 授与機関名: 大阪大学
• 授与年月日: 平成17年3月25日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2005
• 報告番号: 甲第10573号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2005-C464
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007782996; http://id.ndl.go.jp/bib/000007782996
• 整理区分コード: 213