膜堆積に強い電子密度の新測定法と超精密プラズマ制御への応用

• 資料種別: 図書
• タイトル: 膜堆積に強い電子密度の新測定法と超精密プラズマ制御への応用
• タイトルよみ: マク タイセキ ニ ツヨイ デンシ ミツド ノ シンソクテイホウ ト チョウセイミツ プラズマ セイギョ エノ オウヨウ
• 著者・編者: 中村圭二, 中部大学 [著]
• 著者標目: 中村, 圭二 ナカムラ, ケイジ; 中部大学 チュウブ ダイガク
• 出版事項: [中村圭二]
• 出版年月日等: 1999-2001; 2002.3
• 出版年（W3CDTF）: 1999; 2001
• 数量: 54p
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn; eng
• 件名標目: プラズマプロセス / 電子密度 / 堆積膜 / プラズマ吸収プローブ / 分散関係 / 表面波 / シース プラズマプロセス / デンシ ミツド / タイセキマク / プラズマ キュウシュウ プローブ / ブンサン カンケイ / ヒョウメンハ / シース
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 11558052
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H11558052
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007921567; http://id.ndl.go.jp/bib/000007921567
• 整理区分コード: 214