LSI銅配線層の低比抵抗化に関する研究

• 資料種別: 図書
• タイトル: LSI銅配線層の低比抵抗化に関する研究
• タイトルよみ: LSI ドウ ハイセンソウ ノ テイ ヒテイコウカ ニ カンスル ケンキュウ
• 著者・編者: 原徹, 法政大学 [著]
• 著者標目: 原, 徹 ハラ, トオル; 法政大学 ホウセイ ダイガク
• 出版事項: [原徹]
• 出版年月日等: 2003-2004; 2005.4
• 出版年（W3CDTF）: 2003; 2004
• 数量: 86枚
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(C); 低比抵抗銅メッキ配線層に関する研究 = Electroplationg of low resistivity copper interconnection layer
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 超LSI / 高速化 / 配線層 / 銅配線 / 銅メッキ / 比抵抗 チョウ LSI / コウソクカ / ハイセンソウ / ドウ ハイセン / ドウ メッキ / ヒ テイコウ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 15560281
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H15560281
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007933035; http://id.ndl.go.jp/bib/000007933035
• 整理区分コード: 214