LSI銅配線層の低比抵抗化に関する研究

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Material Type: 図書
Title: LSI銅配線層の低比抵抗化に関する研究
Title Transcription: LSI ドウハイセンソウノテイヒテイコウカニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 原徹, 法政大学 [著]
Author Heading: 原, 徹ハラ, トオル
法政大学ホウセイダイガク
Publication, Distribution, etc.: [原徹]
Publication Date: 2003-2004
2005.4
Publication Date (W3CDTF): 2003
2004
Extent: 86枚
Additional Title: 研究種目基盤研究(C)
低比抵抗銅メッキ配線層に関する研究 = Electroplationg of low resistivity copper interconnection layer
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
Subject Heading: 超LSI / 高速化 / 配線層 / 銅配線 / 銅メッキ / 比抵抗チョウ LSI / コウソクカ / ハイセンソウ / ドウハイセン / ドウメッキ / ヒテイコウ
NDLC: Y151
Note (General): 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 15560281
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H15560281
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007933035
http://id.ndl.go.jp/bib/000007933035
Bibliographic Record Category (NDL): 214