In-Situ反応制御プロセスによる高温対応エレクトロニクス実装部の形成

• 資料種別: 図書
• タイトル: In-Situ反応制御プロセスによる高温対応エレクトロニクス実装部の形成
• タイトルよみ: In-Situ ハンノウ セイギョ プロセス ニ ヨル コウオン タイオウ エレクトロニクス ジッソウブ ノ ケイセイ
• 著者・編者: 廣瀬明夫, 大阪大学 [著]
• 著者標目: 廣瀬, 明夫 ヒロセ, アキオ; 大阪大学 オオサカ ダイガク
• 出版事項: [廣瀬明夫]
• 出版年月日等: 2003-2004; 2005.5
• 出版年（W3CDTF）: 2003; 2004
• 数量: 1冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(C)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 高温対応実装プロセス / エレクトロニクス実装部 / 界面反応 / 金属間化合物 / めっき / ナノ粒子 / 低温焼成 コウオン タイオウ ジッソウ プロセス / エレクトロニクス ジッソウブ / カイメン ハンノウ / キンゾク カン カゴウブツ / メッキ / ナノ リュウシ / テイオン ショウセイ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 15560626
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H15560626
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007945478; http://id.ndl.go.jp/bib/000007945478
• 整理区分コード: 214