In-Situ反応制御プロセスによる高温対応エレクトロニクス実装部の形成

Call No. (NDL): Y151-H15560626
Bibliographic ID of National Diet Library: 000007945478

Material type: 図書

Author: 廣瀬明夫, 大阪大学 [著]

Publisher: [廣瀬明夫]

Publication date: 2003-2004

Material Format: Paper

Capacity, size, etc.: 1冊

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Note (General)：: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書

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Material Type: 図書
Title: In-Situ反応制御プロセスによる高温対応エレクトロニクス実装部の形成
Title Transcription: In-Situ ハンノウセイギョプロセスニヨルコウオンタイオウエレクトロニクスジッソウブノケイセイ
Author/Editor: 廣瀬明夫, 大阪大学 [著]
Author Heading: 廣瀬, 明夫ヒロセ, アキオ
大阪大学オオサカダイガク
Publication, Distribution, etc.: [廣瀬明夫]
Publication Date: 2003-2004
2005.5
Publication Date (W3CDTF): 2003
2004
Extent: 1冊
Additional Title: 研究種目基盤研究(C)
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
Subject Heading: 高温対応実装プロセス / エレクトロニクス実装部 / 界面反応 / 金属間化合物 / めっき / ナノ粒子 / 低温焼成コウオンタイオウジッソウプロセス / エレクトロニクスジッソウブ / カイメンハンノウ / キンゾクカンカゴウブツ / メッキ / ナノリュウシ / テイオンショウセイ
NDLC: Y151
Note (General): 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 15560626
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H15560626
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007945478
http://id.ndl.go.jp/bib/000007945478
Bibliographic Record Category (NDL): 214