機器導体部のプラズマCVD絶縁膜(CxFy高分子)によるSF6ガス代替絶縁

• 資料種別: 図書
• タイトル: 機器導体部のプラズマCVD絶縁膜(CxFy高分子)によるSF6ガス代替絶縁
• タイトルよみ: キキ ドウタイブ ノ プラズマ CVD ゼツエンマク CxFy コウブンシ ニ ヨル SF6 ガス ダイタイ ゼツエン
• 著者・編者: 酒井洋輔, 北海道大学 [著]
• 著者標目: 著者 ： 酒井, 洋輔, 1944- サカイ, ヨウスケ, 1944- ( 01240935 )典拠; 北海道大学 ホッカイドウ ダイガク ( 00260056 )典拠
• 出版事項: [酒井洋輔]
• 出版年月日等: 2003-2004; 2005.3
• 出版年（W3CDTF）: 2003; 2004
• 数量: 1冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 電気絶縁 / アモルファスCF薄膜 / パーフルオロカーボン / パッシェン曲線 / 絶縁体力向上 デンキ ゼツエン / アモルファス CF ハクマク / パーフルオロカーボン / パッシェン キョクセン / ゼツエン タイリョク コウジョウ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 15360143
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H15360143
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007958164; http://id.ndl.go.jp/bib/000007958164
• 整理区分コード: 214