Novel nitridation technique using atmospheric pressure plasma : formation mechanism of ultrathin silicon nitride film and the dielectric property

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Novel nitridation technique using atmospheric pressure plasma : formation mechanism of ultrathin silicon nitride film and the dielectric property
• 著者・編者: Ryoma Hayakawa [著]
• 著者標目: 早川, 竜馬 ハヤカワ, リョウマ
• 出版事項: [Ryoma Hayakawa]
• 出版年月日等: 2006
• 出版年（W3CDTF）: 2006
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 大気圧プラズマを用いた新規な窒化技術 : 極薄シリコン窒化膜の形成機構とその誘電特性 タイキアツ プラズマ オ モチイタ シンキナ チッカ ギジュツ : ゴクウス シリコン チッカマク ノ ケイセイ キコウ ト ソノ ユウデン トクセイ
• 授与機関名: 大阪府立大学
• 授与年月日: 平成18年3月31日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2006
• 報告番号: 甲第964号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2006-E684
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000008199216; http://id.ndl.go.jp/bib/000008199216
• 整理区分コード: 213