ナノグレード素子基板の理想表面形成技術の研究

• 資料種別: 図書
• タイトル: ナノグレード素子基板の理想表面形成技術の研究
• タイトルよみ: ナノグレード ソシ キバン ノ リソウ ヒョウメン ケイセイ ギジュツ ノ ケンキュウ
• 著者・編者: 渡邉純二, 熊本大学 [著]
• 著者標目: 渡邉, 純二, 1942- ワタナベ, ジュンジ, 1942- ( 00983963 )典拠; 熊本大学 クマモト ダイガク ( 00260061 )典拠
• 出版事項: [渡邉純二]
• 出版年月日等: 2002-2004; 2006.3
• 出版年（W3CDTF）: 2002; 2004
• 数量: 188p
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(A)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 紫外光照射研磨装置 / TiO_2固体光触媒 / 紫外光線 / ダイヤモンド単結晶 / SiC単結晶 / 酸化膜 / XPS分析 / 研磨加工 シガイコウ ショウシャ ケンマ ソウチ / TiO_2 コタイ ヒカリ ショクバイ / シガイ コウセン / ダイヤモンドタンケッショウ / SiC タンケッショウ / サンカマク / XPS ブンセキ / ケンマ カコウ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 14205026
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H14205026
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000008316224; http://id.ndl.go.jp/bib/000008316224
• 整理区分コード: 214