オプトエレクトロニクス分野を中心としたスパッタリング法による薄膜作製・制御技術

• 資料種別: 図書
• ISBN: 4-86104-125-2
• タイトル: オプトエレクトロニクス分野を中心としたスパッタリング法による薄膜作製・制御技術
• タイトルよみ: オプトエレクトロニクス ブンヤ オ チュウシン ト シタ スパッタリングホウ ニ ヨル ハクマク サクセイ セイギョ ギジュツ
• 出版事項: 東京 : 技術情報協会
• 出版年月日等: 2006.10
• 出版年（W3CDTF）: 2006
• 数量: 346p
• 大きさ: 27cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: オプトエレクトロニクス オプト エレクトロニクス ( 00576721 )典拠; 薄膜 ハクマク ( 00562857 )典拠; スパッタリング スパッタリング ( 01155699 )典拠
• NDC9版: 549.95 : 電子工学
• NDLC: ND416
• 対象利用者: 一般
• 書誌注記: 文献あり
• 入手条件・定価: 84000円 (税込)
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: ND416-H155
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000008341945; http://id.ndl.go.jp/bib/000008341945
• 全国書誌番号: 21129476
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版
• 整理区分コード: 111

目次

目次

第1章 スパッタリング薄膜の成膜現場で発生する問題，原因，対策手法

第1節 スパッタリング法の原理，成膜過程を理解する/ 3

1. スパッタリング現象/ 3

1.1 スパッタリングとは/ 3