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オプトエレクトロニクス分野を中心としたスパッタリング法による薄膜作製・制御技術

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オプトエレクトロニクス分野を中心としたスパッタリング法による薄膜作製・制御技術

国立国会図書館請求記号
ND416-H155
国立国会図書館書誌ID
000008341945
資料種別
図書
著者
-
出版者
技術情報協会
出版年
2006.10
資料形態
ページ数・大きさ等
346p ; 27cm
NDC
549.95
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目次

  • 目次

  • 第1章 スパッタリング薄膜の成膜現場で発生する問題,原因,対策手法

  • 第1節 スパッタリング法の原理,成膜過程を理解する/ 3

  • 1. スパッタリング現象/ 3

  • 1.1 スパッタリングとは/ 3

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書誌情報

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資料種別
図書
ISBN
4-86104-125-2
タイトルよみ
オプトエレクトロニクス ブンヤ オ チュウシン ト シタ スパッタリングホウ ニ ヨル ハクマク サクセイ セイギョ ギジュツ
出版年月日等
2006.10
出版年(W3CDTF)
2006
数量
346p
大きさ
27cm
出版地(国名コード)
JP